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PLC技術(shù)資料
    歐姆龍成功事例 | ecvd設(shè)備腔體的溫度均衡控制方案
    發(fā)布者:  發(fā)布時(shí)間:2025/10/14 13:53:47

    應(yīng)用介紹

    【行業(yè)】pv

    【設(shè)備】pecvd

    【用途】在太陽(yáng)能電池表面沉積薄膜,提高電池的效率和性能

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    應(yīng)用場(chǎng)景

    單臺(tái)設(shè)備分為5個(gè)爐管,每個(gè)爐管分為6個(gè)溫區(qū),通過(guò)串級(jí)控制實(shí)現(xiàn)對(duì)腔體內(nèi)部的控溫。

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    解決課題

    1、關(guān)乎鍍膜效率的核心數(shù)據(jù):升溫和回溫速度較慢,從0度升到目標(biāo)500度需要40分鐘以上;加入氣體以及硅片回溫到目標(biāo)溫度需要15分鐘。

    2、溫控精度影響鍍膜的均勻度以及電池效率,目前設(shè)備只能達(dá)到±5℃。

    價(jià)值提案

    核心產(chǎn)品:溫度控制單元 nx-tc

    ■自帶外部干擾抑制功能,能夠針對(duì)可預(yù)測(cè)的外部干擾預(yù)先抑制溫度變化。實(shí)現(xiàn)升溫時(shí)間(40min→35min)與回溫時(shí)間(15min→13min)的縮短。

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    ■啟動(dòng)時(shí)自動(dòng)調(diào)整pid,有效削減繁瑣調(diào)整的工時(shí)。溫控穩(wěn)定( ±5℃ → ±3℃)

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    相關(guān)產(chǎn)品

    nx系列 溫度控制單元 nx-tc

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    https://www.fa.omron.com.cn/products/family/3699/

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