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應(yīng)用范圍 ：
廣泛應(yīng)用于家電電器、鐘表、高爾夫球頭、工藝美術(shù)品、玩具、車燈反光罩、手機(jī)按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表面裝飾性鍍膜及工模具的功能涂層，在鍍制超黑膜、純金裝飾膜、導(dǎo)電膜等領(lǐng)域有不可替代的優(yōu)勢。
適用于玻璃和塑膠光學(xué)鏡片、眼鏡片AF、AS膜的鍍膜生產(chǎn)，也適用于手機(jī)視窗(玻璃或塑膠)、塑膠片材彩色光學(xué)膜的制備。
特點(diǎn)：
1.大抽速真空系統(tǒng)加配深冷裝置，優(yōu)秀的動(dòng)態(tài)真空能力，滿足高效率生產(chǎn)的要求。
2.裝載量更大，如需鍍制大尺寸平面產(chǎn)品，可配備平面夾具
3.配備為該系列鍍膜機(jī)特殊設(shè)計(jì)的單電子槍，可使膜料面平整無坑、確保蒸發(fā)分布穩(wěn)定。
4.可配置在線反射率監(jiān)控系統(tǒng)，產(chǎn)品一致性好。
產(chǎn)品參數(shù)
德國萊寶 型號：APS1104 空空室尺寸：1100*1200MM
深冷裝置：溫度-135℃，抽速90000L/S，功率7.5KW
真空性能：極限5×10-4Pa,抽速：大氣到5×10-3Pa小于10分鐘，升壓時(shí)間：1×10-3Pa到1×10-1Pa大于10分鐘
轉(zhuǎn)動(dòng)夾具：球面或平面，5-20轉(zhuǎn)/立式公轉(zhuǎn)夾具
電子槍：單雙槍/電阻+磁控濺射
離子源：矩形離子源
晶體膜厚儀：SQC-310（全中文操作界面）
寬光譜監(jiān)控：400-1200nm多片反射