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基本參數(shù)

電鍍行業(yè)鍍膜用高純化水設(shè)備選二級反滲透+EDI 裝置生產(chǎn)廠家

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一、半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備概述

半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備主要應(yīng)用在半導(dǎo)體清洗行業(yè)，該設(shè)備采用先進(jìn)的反滲透技術(shù)和EDI技術(shù)，保證設(shè)備的質(zhì)量和出水水質(zhì)。該設(shè)備整體采用先進(jìn)的不銹鋼材質(zhì)，抗腐蝕能力強(qiáng)，同時也不會出現(xiàn)生銹問題，質(zhì)量可靠，受到用戶的一致好評。

二、半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備工作原理

EDI裝置將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。EDI工作原理如下圖所示。EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開，形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽電極。在直流電的推動下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進(jìn)入到濃水室而在淡水室中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng)，成為濃水.EDI設(shè)備一般以反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電導(dǎo)率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達(dá)18MΩ.cm(25℃)，但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。

三、半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備制備工藝

1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點。(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)

2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點。(≥18MΩ.CM)(新工藝)

3、預(yù)處理→一級反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點。(≥17MΩ.CM)(新工藝)