在X-Ray檢測(cè)的過程中，X-Ray穿過待檢樣品，然后在圖像探測(cè)器(現(xiàn)在大多使用X-Ray圖像增強(qiáng)器)上形成一個(gè)放大的X光圖。該圖像的質(zhì)量主要由分辨率及對(duì)比度決定。
成像系統(tǒng)的分辨率(清晰度)決定于X射線源焦斑的大小、X光路的幾何放大率和探測(cè)器像素大小。微焦點(diǎn)X光管的焦斑可小到兒個(gè)微米。X光路的幾何放大率可達(dá)到10-2500倍，探測(cè)器像素可小到幾十微米。
防輻射鉛門企業(yè)說成像系統(tǒng)的對(duì)比度決定于圖像探洲器的探測(cè)效率、電子學(xué)系統(tǒng)的信噪比和合適的X射線能最。目前一般的X射線成像技術(shù)可以獲得好于1%的對(duì)比度。
高能電子轟擊陽極靶有98%-99%的能量轉(zhuǎn)化成熱能散失掉，因此，陽極靶一定要耐熱，只有淺1%~2%的能量轉(zhuǎn)變?yōu)閄射線
