 
伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術(shù)參數(shù):
| 射頻離子源型號(hào) | RFICP 380 | 
| Discharge 陽(yáng)極 | 射頻 RFICP | 
| 離子束流 | >1500 mA | 
| 離子動(dòng)能 | 100-1200 V | 
| 柵極直徑 | 30 cm Φ | 
| 離子束 | 聚焦 | 
| 流量 | 15-50 sccm | 
| 通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 | 
| 典型壓力 | < 0.5m Torr | 
| 長(zhǎng)度 | 39 cm | 
| 直徑 | 59 cm | 
| 中和器 | LFN 2000 | 
推薦理由:
使用 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380可以準(zhǔn)確、靈活地對(duì)樣品選定的區(qū)域進(jìn)行沉積和刻蝕.
運(yùn)行結(jié)果:
1. 沉積的類金剛石薄膜厚度約為 1.0 μm, 薄膜均勻且致密, 表面粗糙度Ra為13.23nm
2. 類金剛石薄膜與基體結(jié)合力的臨界載荷達(dá)到31.0N
3. DLC薄膜具有良好的減摩性, 摩擦系數(shù)為0.15, 耐磨性能得到提高
	 
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