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PLC企業(yè)資訊
    KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源用于制備類金剛石薄膜
    發(fā)布者:bdqysh  發(fā)布時(shí)間:2020-10-30 15:19:43

    國內(nèi)某制造商在鈦合金表面制備一層類金剛石薄膜 DLC, 以期改善鈦合金表面摩擦學(xué)性能, 為了獲得均勻且致密的類金剛石薄膜, 采用伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 制備類金剛石薄膜.

    伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術(shù)參數(shù):

    射頻離子源型號

    RFICP 380

    Discharge 陽極

    射頻 RFICP

    離子束流

    >1500 mA

    離子動能

    100-1200 V

    柵極直徑

    30 cm Φ

    離子束

    聚焦

    流量

    15-50 sccm

    通氣

    Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

    典型壓力

    < 0.5m Torr

    長度

    39 cm

    直徑

    59 cm

    中和器

    LFN 2000

     

    推薦理由:

    使用 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380可以準(zhǔn)確、靈活地對樣品選定的區(qū)域進(jìn)行沉積和刻蝕.

     

    運(yùn)行結(jié)果:

    1. 沉積的類金剛石薄膜厚度約為 1.0 μm, 薄膜均勻且致密, 表面粗糙度Ra為13.23nm

    2. 類金剛石薄膜與基體結(jié)合力的臨界載荷達(dá)到31.0N

    3. DLC薄膜具有良好的減摩性, 摩擦系數(shù)為0.15, 耐磨性能得到提高

     

    伯東是德國 Pfeiffer 真空泵檢漏儀質(zhì)譜儀真空計(jì), 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機(jī), 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.

     

     

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