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    伯東 KRI 考夫曼霍爾離子源 eh 3000 用于清洗 PPS/ PEEK 襯底面
    發(fā)布者:bdqysh  發(fā)布時(shí)間:2020-10-23 11:32:59

    為了獲得具備電磁屏蔽能力的 PPS, PEEK等高分子輕量化材料 PPS, PEEK 導(dǎo)電性能差、無(wú)電磁波屏蔽能力或者達(dá)不到理想的屏蔽效果因此某機(jī)構(gòu)采用磁控濺射鍍膜工藝對(duì) PPSPEEK 等材料結(jié)構(gòu)件產(chǎn)品表面進(jìn)行金屬化處理.

     

    其工藝主要分為前處理、鍍膜、后處理等個(gè)環(huán)節(jié)

     

    前處理需要對(duì) PPS/PEEK 待鍍襯底面進(jìn)行 Hall 離子源清洗該機(jī)構(gòu)采用伯東 KRI 考夫曼 霍爾離子源 eh 3000 對(duì) PPS/ PEEK 襯底面進(jìn)行清洗.

     

    KRI 考夫曼 霍爾離子源 Gridless eH 3000 主要技術(shù)參數(shù):

    離子源型號(hào)

    霍爾離子源 eH3000

    Cathode/Neutralizer

    HC

    電壓

    50-250V

    電流

    20A

    散射角度

    >45

    可充其他

    Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others

    氣體流量

    5-100sccm

    高度

    6.0“

    直徑

    9.7“

    水冷

    可選

     

    其濺射室需要沉積前本底真空抽到 1×10-5 Pa, 經(jīng)推薦采用伯東經(jīng)濟(jì)型分子泵組 HiCube 30 Eco其技術(shù)參數(shù)如下: 

    泵組型號(hào)

    進(jìn)氣法蘭

    分子泵
    型號(hào)

    抽速
    氮?dú)?/span>l/s

    極限真空
     hPa

    前級(jí)泵型號(hào)

    前級(jí)泵
    抽速 m3/h

    Hicube 30 Eco

    DN 40 ISO-KF

     Hipace 30

    22

    1X10-7

    MVP 015-2

    1

     

    運(yùn)用結(jié)果:

    1. KRI 考夫曼 霍爾離子源 eh 3000 對(duì)襯底面良好的清洗提高了膜層的附著力

    2. 經(jīng)濟(jì)型分子泵組 HiCube 30 Eco快速將本底真空抽到 1×10-5 Pa并穩(wěn)定保持整個(gè)過(guò)程的真空度

     

    伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵檢漏儀質(zhì)譜儀真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó)HVA 真空閥門(mén), 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.

     

     

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